CLEAN WIPER
와이퍼는 공정에 필수적으로 사용되며
제품자체에 밀착하여 오염을 제거하는
용도로 사용 됩니다
※ 사 용 용 도
- 초고집적 반도체 공정
- TFT-LCD공정
- BLU공정
- 광학정밀기기 Cleaning용
- 크린룸내 미세 공정 세정용
※ 특 징
- 폴리에스터 WIPER
- 폴리에스터 + 나일론이
혼합된 극세사 WIPER
- 17MΩ의 초순수 D.I WATER로 세탁
- 반도체, FAB, LCD등의 제조공정에서
가장 일반적으로 사용되는 WIPER
- 마찰강도가 아주 강해
섬유의 탈락현상이 없음
- 높은 흡수력과 부드러움이 우수
- 닦임성, 흡수성이 매우 우수
- 내약품성, 친유성이 우수
